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产 品 介 绍
 
贵金属电镀工艺

EZ-18Silverstar

光亮  镀银工艺

 

该工艺不含金属光亮剂,是适用于电子工业及装饰性工业的氰化镀银工艺,可适用于挂镀及滚镀操作。

特点:

可镀出任意厚度的银镀层,表面光亮如镜
镀层纯度高,延展性极佳,导电性能好,接触电阻小,耐磨
分散能力强,光亮区较宽
电流密度高,沉积速度快,生产效率明显提高

镀层特点:

纯度          99.9%
硬度          120-150Vickers
密度          105mg/μm·dm2
电镀效率    67mg/Amin

设备:

镀槽                       所有镀槽须以PVC、PP、PTFE或硬橡胶造或衬里
冷却/加热设备          以不锈钢、钛或PTFE制造
过滤                       连续过滤、先用PP滤芯,滤芯使用前须用2%氢氧化钾在
80-90℃范围内淋洗1小时并冲洗干净
阳极                      高纯镀银板或银角
搅拌                      建议采用阴极移动搅拌或用过滤器循环溶液,不能用空气搅拌
整流器                   用0-6V的整流器,波纹系数小于5%

操作条件:

 

挂镀

滚镀

 

范围

最佳

范围

最佳

金属银 g/L

20-40

30

20-40

30

游离氰化钾 g/L

90-145

120

100-200

150

氢氧化钾 g/L

5-10

7.5

5-10

7.5

PH值

12.0-12.5

EZ-18Silverstar A  ml/L

30

EZ-18Silverstar B ml/L

15

温度 ℃

20-40

25

20

阴极电流密度 A/dm2

0.5-4.0

2

0.5-2.0

1.0

电镀效率 mg/Amin

67

67

镀1um镀层所需时间
(电流密度2A/dm2时) s

50

90

银消耗量 g/Ah

4.0

4.0

阳极/阴极比例

2:1

1-2:1

阳极

纯银角(有阳极包)或银板

EZ-Silver Gleam 360

光亮  镀银工艺

 

该工艺为装饰性不含锑电镀光银工艺,可适用于挂镀及滚镀操作。电镀后外观洁白、光亮。特别适合装饰性、首饰、饰品的电镀。

特点:

1.高光亮性;
2.镀层有极好的填平能力;
3.适用于装饰性电镀;
4.适用于挂镀或滚;

操作条件:

参数

最佳值

范围

银(标准配方法)

35克/L

30-40克/L

银(底含量配方法)

20克/L

15-25克/L

游离氢化甲

130克/L

120-140克/L

温度

25度

20-30度

阴极电流密度

1安培/平方分米

阳极

高纯度99%99电解银

搅拌

阴极移动2-10公尺/分钟

阴极效率

67毫克/安培分钟(100%)

沉积速度

最佳条件下1.5分钟/微米

镀层特性
密度                            10.5克/立方厘米
硬度                            120Vickers
光亮度                         高光亮度及洁白之镀层

EZ-AG101

无氰化学镀银工艺

该工艺是一种新型无氰微碱性镀银液,它具有镀液稳定,易于操作,适用于线路板化学镀、挂镀或滚镀各种电子元器件以及五金件镀薄银。

特点:

1、镀层洁白光亮,致密无孔隙。

2、用专用防变色剂处理后可保持颜色不变。

3、镀层具有优良的导电性和可焊性。

4、在中等温度(65℃)下浸渍3-8分钟即可达0.8-1.2微米厚的银层。

5、镀液非常稳定,操作维护简单,可通过添加补充EZ-AG102连续多次使用。

 

 

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